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2025-07-03 12:17:03
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电力（f）h-BN壳层厚度与涂层次数的函数关系图。信息（c）氮化处理后Cu@h-BNNWs的HRTEM图像。
（d~f）分别为单个Cu@h-BNNW的Cu（蓝色）、通畅B（红色）和N（黄色）的EDS元素映射图像及其TEM图像。（d）在200℃下加热8小时后的CuNWs、解决CuNWs/PMMA和Cu@h-BNNWs的照片。【成果简介】近日，甘肃厦门大学蔡端俊教授、甘肃李森森教授（共同通讯作者）等人报道了六方氮化硼钝化技术并制备出了超稳定的、选择性透明的铜纳米线导体。
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通畅（c）Si衬底上Cu-NWs的SEM图像。
作者指出，解决该种Cu@h-BN核壳纳米结构的精密工程在未来高性能电子和光电子器件中有着广泛的应用。以上的布局，甘肃皆可以理解为从无到有，竞争仍然存在，但是更多的是希望。
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